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超纯水设备净化法流程描述

2012-09-27

  超纯水设备净化法流程描述

  电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中,往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话,会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。此外,晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水,造成对环境的污染。

  通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用,在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本.

  微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、电子新材料生产等生产工艺,都需要工业超纯水。传统化学及介质过滤生产超纯水的方法,会因在水中添加各种化学剂,制备过程冗长等各种因素造成产水的不稳定,无法确保长期、稳定的超纯水。

  采用“物理”净化法(超滤→反渗透→EDI→抛光混床),使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命,从此进入了一个无需再生化学品的时代。膜法制备出来的工业纯水,其纯度可达到18MΩ·CM,且系统稳定,使用寿命长,且生产过程所产生的废水又可回用再生。

  纯净水设备:

  反渗透系统是整个纯净水系统的核心部件,只有通过反渗透才能达到纯净水的标准。反渗透系统主要采用膜过滤工艺。然后水分子可以通过反渗透膜。其他一些如钙、镁、钠等离子随废水一起排掉。下面本系统的组成部件。

  1.精密过滤器

  本过滤器主要过滤水中的大颗粒分子。

  2.特种高压泵

  一般这里我们采用的高压泵为南方特种泵。为反渗透设备提供强劲的动力。

  3.反渗透膜

  反渗透膜采用的是膜过滤技术。让水分子通过其他一些离子不能通过达到净化水的目的。

  纯净水设备_原水预处理系统:

  作为纯净水生产的依托是非常重要的。所以要生产纯净水一定是要选择原水水质比较好的地方。如山泉、深井等。在这里牵扯到一个非常重要的指数就是“电导率”。一般而言电导率,越低。水越纯净。现在采用的水处理工艺都是采用的反渗透系统。经过处理后的水一般能达到90%——99%的脱盐率。下面我介绍一下这个系统的组成部件。

  1.原水泵

  原水泵是为原水预处理系统提供原水压力的作用。如果原水有压力就完全可以不用这个设备。一般要求原水压力>=0.3MP

  2.原水箱

  原水箱的作用更简单,是储存原水用的。这是怕原水万一供不上作一个中转。

  3.石英砂过滤器

  这个设备主要是过滤水中的微生物、尘土使原水达到清澈的目的。

  4.活性炭过滤器

  该设备主要是过滤水中的余氯。

  5.加药系统(阴阳离子交换系统)

  以前本系统为阴阳离子交换系统,但是操作起来非常不容易且费工,费料。现在改为加药系统直接向里添加阻垢剂。

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