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EDI超纯水装置在半导体行业中的应用

2013-09-13

  半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子水质技术分为五个行业标准,分别为1MΩ.cm、5MΩ.cm、10MΩ.cm、16MΩ.cm、18MΩ.cm,以区分不同水质。

  半导体行业制备超纯水工艺介绍

  1、采用离子交换树脂制备超纯水的其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→阳床→阴床(复床)→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

  2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备其基本工艺流程为:原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→混床泵→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

  3、采用反渗透水处理设备与EDI超纯水装置,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:

  原水→原水箱→原水泵→多介质过滤器→精密过滤器→高压泵→反渗透设备→RO水箱→EDI超纯水装置泵→保安过滤器→紫外线→EDI超纯水装置→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点

  EDI超纯水装置的特点

  EDI超纯水装置不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:

  ·连续运行,产品水水质稳定

  ·容易实现全自动控制

  ·无须用酸碱再生

  ·不会因再生而停机

  ·节省了再生用水及再生污水处理设施

  ·产水率高(可达95%)

  ·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施

  ·占地面积小

  ·使用安全可靠,避免工人接触酸碱

  ·降低运行及维护成本

  ·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施

  ·安装简单、费用低廉

  ·设备初投资大

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